AOI, 산업용 CT, X-선 검사, 윤곽 측정 장비, 펨토초/피코초 레이저 검사 시스템 등 최신 광학 검사 장비는 광신호 획득 및 이미지 분석을 통해 정밀한 판단을 완성합니다. 광학 시스템은 기준 베이스의 작은 변형, 평면 구배, 빛 반사 간섭 및 환경 교란에 매우 민감합니다. 많은 프로젝트가 시운전 중 이미징 왜곡, 가장자리 포지셔닝 드리프트 및 낮은 반복성 문제로 어려움을 겪고 있습니다. 근본 원인은 광학 렌즈나 소프트웨어 알고리즘이 아니라 잘못 선택된 측정 플랫폼에 있는 경우가 많습니다. 광학 검사 플랫폼은 단순히 일반 CMM 게이지의 표준을 채택할 수 없습니다. 광학 적합성, 구조적 안정성, 응력 제어, 기준 정확도 및 환경 결합 특성이라는 5가지 차원에서 종합적인 평가를 수행해야 합니다.
첫 번째는 기판의 광학적 적응성과 본질적인 안정성입니다. 공작물 베어링 및 포지셔닝 외에도 광학 측정 플랫폼은 장시간 작업에 따른 미광 반사 및 벤치마크 변형에 간접적으로 영향을 미칩니다. 일반 석재 또는 금속 기판의 표면은 확산 반사 또는 국부 반사를 생성하여 광학 이미징을 방해하는 경향이 있습니다. 한편, 내부 재료 응력은 시간이 지남에 따라 천천히 해제되고 약간의 변형을 유발하여 광학 시야 내에서 위치 지정 벤치마크의 오프셋을 직접 유발합니다. 광학 시나리오용 기판에는 높은 강성, 낮은 내부 응력, 낮은 열팽창 및 적절한 표면 질감이 필요합니다. 고밀도-흑색 화강암이 선호되는 옵션입니다. 조밀하고 균질한 구조로 미광 반사를 억제하고 변형 히스테리시스가 매우 낮으므로 장기간 연속 검사 후에도 벤치마크 크리프가 발생하지 않습니다. 일부 경량 광학 선형 모터 플랫폼의 경우 필요에 따라 정밀 세라믹, 탄소 섬유 빔, UHPC 또는 광물 주조를 선택할 수도 있습니다. 각 재료에는 장점이 있습니다. 세라믹은 높은-청결성과 부식 방지-광학 스테이션에 적합합니다. 미네랄 캐스팅은 탁월한 감쇠 기능을 제공하여 광학 경로가 미세 진동으로 인해 방해받는 것을 방지합니다.- 탄소 섬유 구성 요소는 대형-광학 갠트리의 경량 요구 사항을 충족합니다. 불순물 질감이 풍부한 느슨한 일반 대리석은 쉽게 고르지 않은 국부적 변형을 생성하고 광학 검사 벤치마크를 약화시키므로 피해야 합니다.
두 번째는 평면 정확성과 표면 품질, 전체 표면 프로파일과 국소 미세{0}}형태의 균형입니다. 기존의 기계적 측정은 단일-차원 오류에만 초점을 맞추는 반면, 광학 검사는 영역 이미징입니다. 플랫폼 국부적인 영역의 작은 기복과 연삭 잔물결이 광학 이미지로 투사되어 잘못된 결함을 형성합니다. 따라서 광학 플랫폼에는 공칭 평탄도뿐만 아니라 단파장 표면 리플을 줄이기 위한 전체-개구면 오류 제어도 필요합니다.- 가공 중에 국부적인 높이 차이를 없애기 위해 연삭 작업의 균형을 맞춰야 합니다. 대형-PCB 광학 검사 및 대면적 페로브스카이트 코팅 검사 플랫폼과 같은 대형 광학 검사 기반의 경우 평면 경사 오류를 제어하여 전체 이미징 시야에 걸쳐 연속적이고 원활한 벤치마크를 보장해야 합니다. 플랫폼의 평면 정확도는-단순히 배송 시 검사를 통과하고 몇 달 동안 작동한 후 품질이 저하되는 것이 아니라 장기적인 안정성을 유지해야 합니다.
셋째, 하중에 따른 변형을 방지하기 위한 구조 설계 및 지지 레이아웃입니다. 광학 검사 장비의 렌즈 모듈, 광원 및 모션 슬라이드는 플랫폼의 국부적인 영역에 지속적으로 하중을 가합니다. 구조적 견고성이 부족하거나 지지점을 부적절하게 설계하면 하중이 가해질 때 탄성이 가라앉아 광학 경로의 초점이 흐려집니다. 광학 플랫폼의 지지 방식에는 하중 시뮬레이션이 필요하며 장비 자중과 동적 운동 하중을 분산시키기 위해 다점 적응형 지지 구조를 채택합니다. 대형 플랫폼은 캔틸레버 구조로 인한 굽힘 변형을 방지해야 합니다. 플랫폼 본체는 여러 노화 주기를 거쳐 공백 응력을 완전히 방출하고 장기간 장비 작동 중에 점진적인 응력 방출로 인해 유발되는 벤치마크 변형을 방지합니다-. 에어베어링 모션 축이 장착된 광학 플랫폼의 경우 베이스에 더 높은 강성이 필요합니다. 사소한 변형은 공극 균일성에 영향을 미치고 선형 운동의 지터를 유발하여 레이저 및 광학 위치 지정 정확도를 손상시킵니다.
넷째, 깔끔한 디자인, 표면처리, 조립 인터페이스입니다. 광학 검사 스테이션은 먼지에 매우 민감합니다. 플랫폼이나 작업물 표면의 작은 입자는 광학 시스템에 의해 결함으로 식별됩니다. 따라서 광학 장비용 플랫폼에는 먼지가 쌓이지 않고 청소가 쉬운 조밀하고 비다공성 표면이 필요합니다.- 표면 처리에서는 파편이 떨어져 나가지 않아야 합니다. 사전에 예약된- 장착 나사산 구멍과 위치 핀 구멍은 엄격한 공차 제어를 통해 한 번에 형성되어 광학 모듈, 선형 모터 및 선형 스케일에 대한 통합 조립 벤치마크를 보장합니다. 플랫폼의 가장자리 모따기 및 밀봉 구조는 먼지가 숨어 있는 영역을 줄이기 위해 최적화되었습니다. 반도체 광학 검사 시나리오에서 플랫폼은 클린룸 환경과도 호환되어야 하며, 재료 자체는 깨끗한 생산 요구 사항을 충족하기 위해 오염 물질을 쉽게 침전시키지 않습니다.
다섯째, 광학 측정의 반복성을 보장하기 위한 방해 방지 기능 및 계측 추적 시스템입니다. 광학 이미징은 미세-진동과 온도 변화에 모두 민감합니다. 아주 작은 진동이라도 이미지를 흐리게 만듭니다. 플랫폼과 공작물 사이의 작은 온도 차이로 인해 국부적인 굽힘 및 오프셋 광학 이미징 위치가 발생합니다. 따라서 광학 측정 플랫폼 시스템은 재료의 온도 안정성과 옵션인 진동-절연 기반 및 충격 트렌치를 결합하여 외부 진동 전달을 약화시켜야 합니다. 공장 검사의 경우 하나의 게이지를 사용한 단일 지점 측정만으로는 충분하지 않습니다. 레이저 간섭계와 고정밀{9}}전자 수준기는 전체 영역 표면 스캐닝에 사용됩니다. 검증은 DIN, ASME, JIS, GB 및 기타 국제 계측 표준에 따라 수행됩니다. 모든 측정 장비는 국가 계측 기관으로 추적될 수 있습니다.
광학 검사 시나리오는 매우 다양합니다. 실험실의 오프라인 고정밀-윤곽 광학 검사에서는 나노-등급 표면 화강암 참조 플랫폼을 선호합니다. 생산-라인 AOI 및 온라인 PCB 광학 검사에는 균형 잡힌 진동 저항과 장기적인-안정성이 필요합니다. 펨토초 레이저 광학 검사 시스템은 플랫폼 온도 드리프트 및 미세{7}}진동 제어에 대해 가장 엄격한 요구사항을 적용합니다. 맞춤형 솔루션은 광 경로 유형, 스캐닝 범위, 모션 부하 및 작업장 환경에 따라 설계되어야 합니다.
UNPARALLELED GROUP은 다중-재료 정밀 부품 제조 역량을 자랑합니다. 다년간의 연삭 전문 지식과 산학-대학-연구 협력의 계측 연구를 바탕으로 고유한 광학 경로 및 이미징 특성에 따라 광학 검사 장비의 정밀 기반을 맞춤화합니다. 재료 선택 및 구조 최적화부터 표면 연삭 및 계측 검증에 이르기까지 전체 프로세스는 광학 검사의 벤치마크 요구 사항과 일치합니다. AOI, 레이저 검사, 산업용 CT 및 기타 광학 장비에 안정적이고 신뢰할 수 있는 고정밀 베어링 플랫폼을 제공하여 정확하고 안정적인 광학 이미징 출력을 지원합니다.